本發(fā)明公開(kāi)了一種無(wú)損、快速、準(zhǔn)確表征ta-C膜鍵態(tài)結(jié)構(gòu)的方法。首先，在石英或硅襯底上制備ta-C薄膜，然后利用紫外/可見(jiàn)/近紅外分光光度計(jì)與光譜型橢偏儀分別測(cè)量ta-C薄膜的透射率T與橢偏參數(shù)Ψ和Δ，再以該參數(shù)為擬合參數(shù)，通過(guò)建立襯底層、ta-C薄膜層以及表面粗糙層的數(shù)學(xué)物理模型求解ta-C薄膜厚度df、折射率nf及消光系數(shù)kf，最后分別確定具有純sp2C、純sp3C鍵態(tài)的材料的光學(xué)常數(shù)，在EMA近似下采用Bruggeman算法擬合，即得到ta-C薄膜中化學(xué)鍵sp3/sp2的含量。與現(xiàn)有的表征方法相比，本發(fā)明具有對(duì)樣品要求低、表征過(guò)程快速簡(jiǎn)單易行，對(duì)樣品無(wú)損壞，以及表征精度與準(zhǔn)確性較高的優(yōu)點(diǎn)，具有良好的推廣應(yīng)用價(jià)值。