本發(fā)明公開了一種哈密瓜表面農(nóng)藥殘留鑒別模型的構(gòu)建方法，該方法包含制備用于對(duì)模型進(jìn)行訓(xùn)練的哈密瓜樣本，采集哈密瓜樣本的高光譜圖像，提取高光譜圖像的光譜數(shù)據(jù)并對(duì)其預(yù)處理，對(duì)蜜獾算法HBA采用自適應(yīng)t分布突變方法進(jìn)行突變處理；輸入預(yù)處理后的光譜數(shù)據(jù)，并將該光譜數(shù)據(jù)分為測(cè)試集和訓(xùn)練集，利用突變后的tHBA算法對(duì)ELM分類模型進(jìn)行優(yōu)化處理，獲得最終鑒別模型tHBA?ELM；本發(fā)明還公開了一種哈密瓜表面農(nóng)藥殘留鑒別方法，該方法利用上述構(gòu)建方法構(gòu)建的鑒別模型對(duì)待檢測(cè)哈密瓜樣本進(jìn)行檢測(cè)并輸出鑒別結(jié)果，利用該鑒別模型不僅可對(duì)哈密瓜表面農(nóng)藥殘留進(jìn)行無(wú)損檢測(cè)，而且檢測(cè)效率高，同時(shí)，可對(duì)不同種類農(nóng)藥進(jìn)行精準(zhǔn)鑒別。