本發(fā)明公開了一種蒸鍍?cè)O(shè)備及蒸鍍控制方法，包括真空腔體和位于真空腔體內(nèi)部的坩堝；可移動(dòng)擋板，所述可移動(dòng)擋板在坩堝內(nèi)部與坩堝上表面平行設(shè)置，用于盛放蒸鍍材料；氣壓監(jiān)測(cè)裝置，所述氣壓監(jiān)測(cè)裝置與所述真空腔體連接；氣壓傳動(dòng)裝置，所述氣壓傳動(dòng)裝置分別與所述氣壓監(jiān)測(cè)裝置和所述可移動(dòng)擋板連接，用于控制所述可移動(dòng)擋板在坩堝內(nèi)部向上或向下移動(dòng)。通過在蒸鍍?cè)O(shè)備中增設(shè)可移動(dòng)擋板、氣壓監(jiān)測(cè)裝置和氣壓傳動(dòng)裝置，由氣壓監(jiān)測(cè)裝置和氣壓傳動(dòng)裝置通過無縫精密聯(lián)動(dòng)控制，來改變可移動(dòng)擋板在坩堝內(nèi)的移動(dòng)方向和移動(dòng)距離，以維持蒸汽壓強(qiáng)不變，達(dá)到蒸鍍速率恒定的目的，以避免溫度變化帶來對(duì)蒸鍍材料的影響，確保蒸鍍膜層光特性不失效。