本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造工藝，特別涉及一種槽式濕法清洗設(shè)備的控制方法。 背景技術(shù)： 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中，濕法刻蝕工藝通常采用槽式濕法清洗設(shè)備處理。如圖1所示，傳統(tǒng)的槽式濕法清洗設(shè)備，一個(gè)處理槽裝一種化學(xué)藥液，整個(gè)清洗設(shè)備由多個(gè)處理槽組成。在刻蝕工藝過(guò)程中硅片整體浸泡在充滿化學(xué)藥液的處理槽內(nèi)，化學(xué)藥液定期更換，以保證處理槽的清潔，從而保證產(chǎn)品的質(zhì)量。某些化學(xué)藥液需要頻繁更換，而在其中任意一個(gè)處理槽更換化學(xué)藥液過(guò)程中，硅片無(wú)法進(jìn)行工藝處理。目前的槽式濕法清洗設(shè)備在對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行作業(yè)排序的時(shí)候往往采用產(chǎn)品先進(jìn)機(jī)臺(tái)先處理的順序，未能考慮化學(xué)藥液更換的因素，常常出現(xiàn)由于一個(gè)處理槽化學(xué)藥液更換而出現(xiàn)的整個(gè)設(shè)備停止工作，從而導(dǎo)致浪費(fèi)了槽式濕法清洗設(shè)備的利用率的現(xiàn)象。 如圖1所示，傳統(tǒng)的槽式濕法清洗設(shè)備的另一個(gè)缺點(diǎn)，是存在放置硅片的等待區(qū)域，大量的未處理硅片暫存在等待區(qū)域等待處理。由于機(jī)臺(tái)采用的是產(chǎn)品先進(jìn)機(jī)臺(tái)先處理的順序，所以靈活性較差。當(dāng)有緊急的產(chǎn)品需要優(yōu)先處理的時(shí)候，只能人為到現(xiàn)場(chǎng)把等待區(qū)域里的產(chǎn)品全部取出，然后讓緊急的產(chǎn)品先進(jìn)等待區(qū)等待，這一操作大大浪費(fèi)了人力和時(shí)間，降低了產(chǎn)品的流通速度，從而降低了生產(chǎn)效率。 技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素： 本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是，提供一種靈活性較好，能夠提高流通速度和生產(chǎn)效率的槽式濕法清洗設(shè)備的控制方法。 為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的技術(shù)方案是：一種槽式濕法清洗設(shè)備的控制方法，所述的槽式濕法清洗設(shè)備包括清洗區(qū)域和未處理產(chǎn)品等待區(qū)域，所述的清洗區(qū)域包括多個(gè)化學(xué)藥液處理槽，每個(gè)化學(xué)藥液處理槽裝有一種化學(xué)藥液或者化學(xué)藥液混合物，包括自動(dòng)設(shè)定槽式濕法清洗設(shè)備中未處理產(chǎn)品等待區(qū)域內(nèi)的未處理產(chǎn)品的派工等級(jí)的步驟，根據(jù)派工等級(jí)的先后順序進(jìn)行處理。 進(jìn)一步的，本發(fā)明提供的槽式濕法清洗設(shè)備的控制方法，所述派工等級(jí)的步驟由連接于槽式濕法清洗設(shè)備的控制軟件實(shí)現(xiàn)。 進(jìn)一步的，本發(fā)明提供的槽式濕法清洗設(shè)備的控制方法，還包括手動(dòng)設(shè)置槽式濕法清洗設(shè)備中未處理產(chǎn)品等待區(qū)域內(nèi)的未處理產(chǎn)品的默認(rèn)等級(jí)的步驟，常規(guī)選擇默認(rèn)等級(jí)的先后順序進(jìn)行處理；當(dāng)出現(xiàn)緊急的產(chǎn)品需要優(yōu)先處理時(shí)，選擇派工等級(jí)的先后順序進(jìn)行處理，調(diào)整槽式濕法清洗設(shè)備中未處理產(chǎn)品等待區(qū)域內(nèi)的未處理產(chǎn)品的派工等級(jí)，根據(jù)派工等級(jí)的先后順序優(yōu)先執(zhí)行緊急的產(chǎn)品的清洗作業(yè)。 進(jìn)一步的，本發(fā)明提供的槽式濕法清洗設(shè)備的控制方法，