1.本發(fā)明涉及濕法冶金技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種生產(chǎn)電積鈷的方法。 背景技術(shù)： 2.目前，電積鈷的生產(chǎn)以氯化體系為主，電積過程中會(huì)產(chǎn)生大量的cl2，稍有不慎即會(huì)造成cl2泄露，不僅會(huì)對(duì)環(huán)境造成重大污染，同時(shí)嚴(yán)重影響生產(chǎn)人員的身體健康，同時(shí)還會(huì)縮短生產(chǎn)電積鈷設(shè)備的使用年限。與氯化體系生產(chǎn)電積鈷相比，采用電積coso4生產(chǎn)電積鈷的方法不會(huì)產(chǎn)生cl2，但存在鈷板質(zhì)量較差，電流效率較低的缺陷。 3.其中，專利cn101532095公開了一種非鹽酸電解質(zhì)生產(chǎn)電積鈷的方法，該專利制取的cocl2溶液通過萃取轉(zhuǎn)型、脫氯、除油之后才得到電解液，存在工序長(zhǎng)、生產(chǎn)成本高的缺點(diǎn)； 4.專利cn102206761公開了一種生產(chǎn)高純鈷的方法，該方法在電積前先通過離子交換去除電解液中的fe和ni，電積出來的鈷板再通過真空熔煉的方法得到鈷錠，該方法存在工序長(zhǎng)、設(shè)備復(fù)雜、生產(chǎn)成本高的缺點(diǎn)； 5.專利cn103436913公開了一種電積鎳或電積鈷的裝置，該裝置在電積槽內(nèi)設(shè)置有陰極框和陽極框，在陰極框和陽極框之間設(shè)置了滲透膜，極板框會(huì)占據(jù)一定的空間，減小電積槽的有效體積，從而降低了產(chǎn)能；此外，該專利公開的滲透膜材質(zhì)為滌綸短纖，具有一定的局限性。 技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素： 6.基于現(xiàn)有技術(shù)存在的問題和不足，本發(fā)明提供了一種生產(chǎn)電積鈷的方法，用于改善操作環(huán)境，降低對(duì)設(shè)備的腐蝕，減少原材料的消耗、提高電流效率等。 7.具體技術(shù)方案如下： 8.一種生產(chǎn)電積鈷的方法，其特征在于，包括如下步驟： 9.s1，浸出、除鐵：鈷原料經(jīng)破碎、球磨后用h2so4和so2浸出，得到coso4浸出液，浸出液除鐵后得到除鐵后液；所述除鐵后液中fe濃度小于1mg/l，以減輕萃取工序的負(fù)擔(dān)。 10.s2，萃?。撼F后液經(jīng)p204萃雜工序除去溶液中雜質(zhì)元素，除雜后的萃余液進(jìn)入p507萃鈷工序，用硫酸或電積后液反萃得到純凈的coso4溶液，所述coso4溶液中鈷離子濃度為60～100g/l，電解液中鈷離子的濃度越大，有利于生成致密的陰極沉積物，減少氫離子放電，有利于提高電流密度，但鈷離子濃度過大，會(huì)得到暗色的海綿狀陰極沉積物，工業(yè)上電積液中鈷離子濃度一般為60～100g/l，而這種濃度容易得到優(yōu)質(zhì)的電積鈷產(chǎn)品。 11.s3，深度凈化：采用萃取法或離子交換法進(jìn)一步除去coso4溶液中的少量雜質(zhì)，并對(duì)coso4溶液進(jìn)行深度除油，深度