真空鎢網(wǎng)爐/連續(xù)生產(chǎn)線 249     

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主要用于電力能源燃料芯塊及燃料小球、燃料大球的燒結(jié)處理。用于各種連續(xù)生產(chǎn)建線，從低溫到高溫、稱重、封裝、轉(zhuǎn)移連續(xù)化生產(chǎn)。

真空油氣淬爐 302     

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主要用于工、模具鋼，合金結(jié)構(gòu)鋼，軸承鋼等工件的真空油淬。

數(shù)控龍門鉆床 385     

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該系列鉆床可完成鉆.擴.鉸、锪.攻絲等工序，適用于大中型金屬板材、盤類.殼體類等復(fù)雜零件及模具的批量加工。機床采用定柱式龍門框結(jié)構(gòu)，底座、工作臺，立柱、橫梁及主軸箱等基礎(chǔ)件全部經(jīng)過次時效處理，穩(wěn)定性好，橫梁具有很強的抗彎能力，能有效抑制鉆削軸向力產(chǎn)生的變形，剛性強，精度保持度好。

數(shù)控臺式鉆床 383     

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m適用于中小型金屬板件、盤類.殼體類等復(fù)雜零件及模具的批量加工。s機床基礎(chǔ)件采用優(yōu)質(zhì)特種鑄件，高剛度結(jié)構(gòu):導(dǎo)軌淬火磨削，與其相配的導(dǎo)軌貼塑，自動間歇潤滑。 進給平穩(wěn)無爬行?！鲋鬏S傳動采用交流電機驅(qū)動，高轉(zhuǎn)速，大扭矩，寬恒功率區(qū)，溫升低，噪聲低。

升降臺銑床 380     

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本系列升降臺銑床該產(chǎn)品操作方便，性能.可靠，廣泛適用于各類機械加工部門，加工各種金屬平面、溝槽，齒輪等。配置銑頭、圓工作臺，分度頭等銑床附件，可進一步擴大機床的使用范圍。

陣列式等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD） 443     

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陣列式PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一種高效、大面積的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，通過等離子體激活反應(yīng)氣體，在低溫下實現(xiàn)高質(zhì)量薄膜的快速沉積。

高真空雙室多功能鍍膜設(shè)備 355     

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高真空雙室多功能鍍膜設(shè)備是一種集成了多種PVD(物理氣相沉積)技術(shù)的先進鍍膜系統(tǒng)，通過雙腔室設(shè)計實現(xiàn)高效率、無污染、多工藝組合的薄膜制備。

脈沖激光鍍膜設(shè)備 440     

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脈沖激光鍍膜設(shè)備(PLD)是一種利用高能脈沖激光轟擊靶材，使材料氣化并在基片上沉積成膜的物理氣相沉積(PVD)技術(shù)。

單室熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 339     

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單室熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是一種采用物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的薄膜制備設(shè)備，主要通過電阻加熱方式使鍍膜材料蒸發(fā)并在基片表面沉積成膜。

雙室熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 311     

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雙室熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是一種采用物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的精密鍍膜系統(tǒng)，通過獨立雙腔室設(shè)計實現(xiàn)高效連續(xù)的薄膜制備。該設(shè)備主要應(yīng)用于光學(xué)薄膜、電子器件、功能涂層等領(lǐng)域。

電阻式蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 334     

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電阻式蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是一種利用電阻加熱原理使鍍膜材料蒸發(fā)，并在真空環(huán)境中沉積到基片表面形成薄膜的物理氣相沉積(PVD)設(shè)備。

真空感應(yīng)熔鑄爐 410     

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真空感應(yīng)熔鑄爐主要用于金屬、合金或特殊材料，在高真空、中真空或惰性氣體氣氛下，在陶瓷類坩堝或石墨坩鍋里進行材料熔化，然后根據(jù)不同的工藝要求，來達到需要的鑄錠或者成型；

真空霧化制粉爐 369     

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真空氣霧化工作原理是在真空狀態(tài)或氣體保護條件下熔煉金屬和金屬合金，金屬液體經(jīng)過保溫坩堝、導(dǎo)流嘴向下流出，通過噴嘴由高壓氣流將金屬液體霧化破碎成大量細小的液滴。細小的液滴在飛行中凝固成球形和亞球形顆粒，再經(jīng)篩選分離達到制備各種粒度的金屬粉末。

水霧化制粉爐 426     

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水霧化制粉方法是近幾年來在粉末冶金行業(yè)中發(fā)展起來的一種新興工藝。它具有工藝簡單、技術(shù)容易掌握、材料不容易氧化、自動化程度較高等優(yōu)點。具體工藝是合金(金屬)在感應(yīng)爐中熔化、精煉后，熔化的金屬液體倒入保溫坩堝中，并進入導(dǎo)流管和噴嘴，此時熔體流被高壓液體流(或氣體流)所霧化，霧化后的金屬粉末在霧化塔中進行凝固、沉降、最后落入收粉罐中收集分離。廣泛應(yīng)用于霧化鐵粉、銅粉、不銹鋼粉、合金粉等有色金屬制粉領(lǐng)域。成套鐵粉設(shè)備、銅粉設(shè)備、銀粉設(shè)備、合金粉設(shè)備的制造技術(shù)日臻成熟。

霧化噴射成形裝置 418     

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噴射成形，又稱噴射鑄造，是一種新興的快速凝固技術(shù)，它將金屬熔體霧化和沉積兩個過程結(jié)合為一體，直接由液態(tài)金屬制取快速凝固預(yù)成型坯件，是一種低成本的近終形和半固態(tài)的加工技術(shù)。它克服了粉末冶金技術(shù)工序復(fù)雜、氧化嚴(yán)重等問題，目前在國內(nèi)外發(fā)展非常迅速。

真空壓力浸漬爐 464     

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設(shè)備主要是通過真空-壓力浸漬的方法，制備航空、航天用金屬基復(fù)合材料、樹脂基復(fù)合材料、C/C復(fù)合材料，提高復(fù)合材料的致密度和綜合性能。

真空脫氫設(shè)備 348     

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真空脫氫設(shè)備主要用于鉿、鋯、鈦及其合金或稀土等脫氫處理。

真空氫化脫氫一體化設(shè)備 350     

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真空氫化脫氫一體化設(shè)備主要用于鉿、鋯、鈦及其合金或稀土等吸氫材料的氫化及脫氫一體化處理。

真空氫化設(shè)備 470     

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真空氫化設(shè)備主要用于鉿、鋯、鈦及其合金或稀土等吸氫材料的氫化處理。

熱等靜壓設(shè)備 477     

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主要用于鑄件、粉末成形零件的無缺限致密化處理，硬質(zhì)合金、復(fù)合材料、陶瓷的增強處理，材料間的連接與復(fù)合處理，常與燒結(jié)工藝相結(jié)合。

磁控濺射連續(xù)鍍膜系統(tǒng) 714     

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設(shè)備用途：主要用于在硅片(或玻璃片)表面制備金屬薄膜(A I 、Ag 、Ni 、Cu、Ti 、Pd等)，及有機薄膜，并能升級實現(xiàn)反應(yīng)濺射。模塊式設(shè)計，可根據(jù)實際需求和功能，組合成型。

小液滴噴射制備系統(tǒng) 619     

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沈陽好智多新材料制備技術(shù)有限公司的小液滴噴射制備系統(tǒng)主要用于在高真空或超純氣氛保護下，制備低熔點和高熔點材料的均勻微球，還能通過預(yù)留的拓展接口增加沉積模塊，用于增材制造的模擬和探究。該系統(tǒng)具備廣泛的熔融溫度范圍(室溫至1200℃)，配備進口紅外測溫儀及熱偶，極限真空度可達7×10?3Pa，可通入氬氣并用質(zhì)量流量計精準(zhǔn)控制流量。

水冷銅坩堝感應(yīng)熔煉定向凝固提純設(shè)備 604     

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「設(shè)備用途」沈陽好智多新材料制備技術(shù)有限公司水冷銅坩堝感應(yīng)熔煉定向凝固提純設(shè)備，采用物理冶金提純法，主要用于冶金級工業(yè)硅粉的提純，用以制備太陽能級多晶硅原材料。

電子束物理法提純設(shè)備 683     

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「設(shè)備用途」采用物理冶金提純法，主要用于冶金級工業(yè)硅粉的提純，用以制備太陽能級多晶硅原材料。產(chǎn)品型號VEBZ-2，主真空室臥式圓筒型真空室，尺寸φ1000×2000mm，雙層水冷。主真空室真空獲得系統(tǒng)擴散泵，羅茨泵，機械泵，高真空氣動擋板閥。

超聲激振技術(shù)系列應(yīng)用設(shè)備 572     

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沈陽好智多新材料制備技術(shù)有限公司的超聲激振技術(shù)系列應(yīng)用設(shè)備，主要用于金屬制備過程中的多種處理。它通過真空感應(yīng)熔煉金屬，在金屬凝固前或凝固過程中，對金屬熔體施加高強度超聲激振，能夠?qū)崿F(xiàn)粉末材料與母合金液的均勻化分散，還能控制金屬凝固組織和性能，比如細化晶粒等。

懸浮熔煉壓力熔滲制備金屬纖維增強設(shè)備 576     

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金屬溶滲工藝是在金屬的融化溫度以上，將多孔制件與熔融的液體金屬相接觸或滲入液體金屬內(nèi)，利用毛細管作用，使液相金屬充填到預(yù)制件的孔隙內(nèi)，形成致密的兩相或多相復(fù)合材料。本設(shè)備具體是將鎢絲密排于石英管內(nèi)，將融化后的合金液(非晶合金)澆注壓力熔滲入鎢絲之間的孔隙內(nèi)，經(jīng)保溫后將石英管(內(nèi)置鎢絲及合金液)快速淬入鎵銦錫合金液內(nèi)(或者鹽水)，達到快速凝固作用，制成復(fù)合材料零件。

等離子弧冷坩堝感應(yīng)熔煉鑄錠爐 602     

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產(chǎn)品應(yīng)用：利用等離子弧加熱熔化放置于水冷銅坩堝內(nèi)的高熔點金屬或陶瓷，通過設(shè)置于水冷銅坩堝外的高頻感應(yīng)線圈進一步熔化攪拌合金液，在通過連續(xù)下拉機構(gòu)完成鑄錠;熔鑄過程中可以連續(xù)加料。用于多晶硅、鈦合金、活性金屬以及高熔點陶瓷材料的高溫提純和凈化及鑄錠。

電子束冷床熔煉鑄錠爐 656     

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沈陽好智多新材料制備技術(shù)有限公司的電子束冷床熔煉鑄錠爐，主要用于多晶硅、鈦合金等活性金屬和高熔點金屬的高真空熔煉提純、凈化及鑄錠。該設(shè)備具備出色的真空性能，極限真空度可達6.67×10??Pa，壓升率不超過0.67Pa/H。電子槍額定功率為100KW，加速電壓35KV，加速電流7A，電子槍室真空度在10??～10?3Pa之間。電子束距離長度為400～800mm，功率密度大于2.5×10?W/cm2。

水冷銅坩堝感應(yīng)熔煉澆鑄爐 597     

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ISM 熔煉過程是在一種由水冷片或稱之為“手指型結(jié)構(gòu)”組成的水冷銅質(zhì)坩堝內(nèi)，并在真空或者保護氣氛環(huán)境下進行的生產(chǎn)過程。整個結(jié)構(gòu)沒有采用任何耐火材料爐襯從而杜絕了金屬/坩堝之間的反應(yīng)。這樣也就消除了金屬陶瓷夾雜污染的可能性，生產(chǎn)出超純凈、高品質(zhì)的產(chǎn)品。普遍應(yīng)用于鈦、鋯等材料的熔煉提純與離心鑄造。

等離子體電弧熔煉提純系統(tǒng) 587     

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設(shè)備用途：設(shè)計專門用于熔融樣品，適合實驗室、工廠用于材料研究、開發(fā)、質(zhì)量控制等。氣體保護環(huán)境下熔融、合金化反應(yīng)性和高熔點金屬材料。適合稀土金屬元素及合金的熔融。