設(shè)備介紹

卷對(duì)卷式PECVD是等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積設(shè)備(PECVD)，并加裝了收放卷裝置。本設(shè)備可用于線材的連續(xù)化熱處理工藝中，如碳纖維制備、合金及其他材料線材改性處理等應(yīng)用中。也適合用于石墨烯在卷材上的連續(xù)生長(zhǎng)。設(shè)備含卷對(duì)卷收放卷運(yùn)動(dòng)模塊、1200℃雙溫區(qū)可開啟式管式爐模塊、PE等離子增強(qiáng)模塊、真空系統(tǒng)以及三路質(zhì)子流量計(jì)供氣系統(tǒng)五部分，整套體系可在真空/氣氛保護(hù)環(huán)境下工作。 收放卷機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)速從1~400mm/min可調(diào),機(jī)構(gòu)采用反饋調(diào)節(jié)，可自動(dòng)糾正轉(zhuǎn)速偏差，保證樣品的速度穩(wěn)定不走樣。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

樣品速度穩(wěn)定

收放卷機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)速從1~400mm/min可調(diào),機(jī)構(gòu)采用反饋調(diào)節(jié)，可自動(dòng)糾正轉(zhuǎn)速偏差，保證樣品的速度穩(wěn)定不走樣

成品質(zhì)量好

具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、針孔較少、不易龜裂等優(yōu)點(diǎn)

更好的沉積效率

PECVD比普通CVD具有更高的化學(xué)氣相沉積速率、更好的均勻性、一致性和穩(wěn)定性

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)品名稱 卷對(duì)卷PECVD系統(tǒng)

產(chǎn)品型號(hào) KJ-T1200-JCY

1200℃雙溫區(qū)管式爐

加熱溫區(qū) 雙溫區(qū) 200mm+200mm(其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制)

工作溫度 ≤1200℃

控溫精度 ±1℃

控溫方式 AI-PID 30段工藝曲線，可存儲(chǔ)多條

爐管材質(zhì) 高純石英

爐管尺寸 φ80mm x 1400mm L(其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制)

密封方式 不銹鋼真空法蘭

工作氣體 氮?dú)?、氬氣、氧氣等非腐蝕性氣體

真空泵 旋片式真空泵

極限真空度 10^-1Pa

三路質(zhì)量流量計(jì)

工作氣體 氮?dú)狻鍤?、氧氣等非腐蝕性氣體

真空泵 旋片式真空泵

極限真空度 10^-1Pa

三路質(zhì)量流量計(jì) 閥門類型 不銹鋼針閥

氣路數(shù)量 三路

承壓范圍 0.05~0.3MPa

量程

1~100 SCCM(Ar)

1~200 SCCM(H2)

1~500 SCCM (CH4)

流量控制范圍 ±1.5%

S射頻電源

輸出功率 500W

輸出精度 ±1%

射頻頻率 13.56MHz

射頻穩(wěn)定度 ±0.005%

冷卻方式 風(fēng)冷