權(quán)利要求書: 1.一種塔式金屬霧化制粉設(shè)備,其特征在于,包括金屬熔煉室、等離子霧化裝置、高溫化合塔室、冷卻塔室、粉末分級收集裝置、抽真空系統(tǒng)、冷卻水循環(huán)裝置、控制柜和塔式安裝平臺支架;所述金屬熔煉室安裝在等離子霧化裝置上方,且與金屬送料機構(gòu)連接,固定在塔式安裝平臺支架的頂部;等離子霧化裝置安裝在高溫化合塔室頂部,用于將經(jīng)金屬熔煉室熔煉后的金屬液霧化,并送入高溫化合塔室進行化合反應(yīng);所述高溫化合塔室的上端與安裝在塔式安裝平臺支架底層的抽真空系統(tǒng)連接,其下端與冷卻塔室,通過塔式安裝平臺支架中的移動支架進行固定;所述冷卻塔室的中部、底端均與粉末分級收集裝置連接;所述粉末分級收集裝置安裝在塔式安裝平臺支架的下方;所述控制柜安裝在塔式安裝平臺支架的不同設(shè)備安裝平臺上,并與其相應(yīng)的控制設(shè)備連接;所述冷卻水循環(huán)裝置與金屬熔煉室、高溫化合塔室和冷卻塔室連接;所述高溫化合塔室包括化合塔殼體、保溫組件、加熱組件和化合反應(yīng)腔室;所述化合塔殼體為嵌設(shè)有夾層冷卻套的筒體,筒體上端設(shè)有與真空系統(tǒng)的連接接頭,其底部設(shè)有與化合反應(yīng)腔室內(nèi)部連通的輸氣管;所述保溫組件包括由保溫筒體、保溫上蓋、保溫下蓋組成,所述保溫筒體的內(nèi)部填充有保溫材料;所述加熱組件包括加熱元件、加熱元件固定柱和加熱元件導(dǎo)電柱;所述加熱元件安裝在保溫筒體和化合反應(yīng)腔室之間,通過加熱元件固定柱固定;加熱元件固定柱固定在保溫筒體外側(cè)的加固隔板上;所述加熱元件導(dǎo)電柱與加熱元件電連接,固定在加固隔板上并穿過化合塔殼體;所述化合反應(yīng)腔室的上下兩端突出保溫腔體并分別與等離子霧化裝置、冷卻塔室連接;所述化合反應(yīng)腔室由外表面涂覆有高溫防氧化涂層的碳?碳復(fù)合材料制作,化合反應(yīng)腔室的頂端設(shè)有與等離子霧化裝置連接的連接腔室,其底部設(shè)有下漏管;下漏管外側(cè)還設(shè)有連通輸氣管的進氣支管,進氣支管的出氣口位于下漏管上方,且朝向下漏管;所述連接腔室與化合反應(yīng)腔室的連接處設(shè)有排氣嘴,化合反應(yīng)腔室的側(cè)壁設(shè)有扶正組件,所述扶正組件固定在加固隔板和化合塔殼體上。
2.如權(quán)利要求1所述塔式金屬霧化制粉設(shè)備,其特征在于,進氣支管的出氣口的中心線與化合反應(yīng)腔室下椎體側(cè)壁之間的夾角≤15°。
3.如權(quán)利要求1所述塔式金屬霧化制粉設(shè)備,其特征在于,所述碳?碳復(fù)合材料的耐溫性≥2000°C;所述高溫防氧化涂層采用可在溫度≥170
聲明:
“塔式金屬霧化制粉設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)