權(quán)利要求書: 1.一種基于砂磨機的過漿設(shè)備,其特征在于:包括,
支架(1),所述支架(1)的頂部水平設(shè)置有支撐圈(2),所述支撐圈(2)的頂部豎直設(shè)置有若干個振動簧(3);
過漿外殼(4),所述過漿外殼(4)的底部周緣與所有的所述振動簧(3)連接,底部的中部設(shè)置有振動電機(5),頂部的中部開設(shè)有入料口(6);
第一過漿層(7),所述第一過漿層(7)呈開口向下的罩狀,貫穿所述第一過漿層(7)開設(shè)有多個第一過漿孔(8);
第一承接層(9),所述第一承接層(9)呈開口向上的罩狀,且所述第一承接層(9)的周緣與所述第一過漿層(7)的周緣連接;
出液管(10),所述出液管(10)呈傾斜設(shè)置,且所述出液管(10)的頂部與所述第一承接層(9)的底部相通,底部位于所述過漿外殼(4)的外部;
所述第一過漿層(7)和所述第一承接層(9)的周緣均與所述過漿外殼(4)的內(nèi)壁之間具有設(shè)定距離,所述過漿外殼(4)的內(nèi)壁上設(shè)置有開口向上呈罩狀的第二過漿層(11),貫穿所述第二過漿層(11)開設(shè)有多個第二過漿孔(12),所述第一過漿孔(8)的直徑小于所述第二過漿孔(12)的直徑;
所述第二過漿層(11)的中部位于所述第一承接層(9)中部的下方,所述第二過漿層(11)的內(nèi)壁與所述第一承接層(9)的外壁之間具有設(shè)定距離;
所述過漿外殼(4)的內(nèi)壁上還設(shè)置有開口向上呈罩狀的第二承接層(13),所述第二承接層(13)的內(nèi)壁與所述第二過漿層(11)的外壁之間具有設(shè)定距離,所述第二承接層(13)的中部位于所述第二過漿層(11)中部的下方;
傾斜穿過所述過漿外殼(4)和所述第二承接層(13)設(shè)置有出雜管(14),所述出雜管(14)的頂部與所述第二過漿層(11)的底部相通,底部位于所述過漿外殼(4)的外部;
所述第二承接層(13)的底部傾斜設(shè)置有引流管(15),所述引流管(15)的頂部與所述第二承接層(13)的底部相通,底部與所述出液管(10)的中部相通;
所述出雜管(14)的縱截面為矩形,且所述出雜管(14)的底部開設(shè)有多個落液孔(16),所述落液孔(16)均位于所述第二承接層(13)的開口中,所述出雜管(14)的底部豎直設(shè)置有環(huán)形的阻擋圈(17),所述落液孔(16)均位于所述阻擋圈(17)中,所述落液孔(16)的直徑小于或等于所述第二
聲明:
“基于砂磨機的過漿設(shè)備及其過漿工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)