權(quán)利要求 1.充填下料裝置，其特征在于包括頂部敞開且呈直桶狀的上箱體，固定在此上箱體底部的且呈倒錐臺狀的下箱體，設(shè)置在所述上箱體和下箱體結(jié)合部位的格篩，固定在此格篩上的導(dǎo)流錐，設(shè)置在所述上箱體頂部的進料管，設(shè)置在所述上箱體頂部的供水管，設(shè)置在所述下箱體底部的出料管，設(shè)置在此出料管頂部的排氣止旋器， 所述的導(dǎo)流錐與所述的上箱體和下箱體同心布置， 所述的進料管末端伸入所述上箱體的內(nèi)腔， 所述的供水管呈“Q”型，所述的供水管包括從所述上箱體側(cè)壁垂直伸入所述上箱體內(nèi)腔的前端管，沿環(huán)向固定于所述上箱體內(nèi)壁上的環(huán)形管，設(shè)置在此環(huán)形管底部沿環(huán)形均布的數(shù)個出水孔，設(shè)置在每個出水孔上的高壓清洗噴嘴， 所述的出料管與所述的下箱體同心布置， 所述的排氣止旋器與所述的出料管同心布置，所述的排氣止旋器包括頂板，貫穿此頂板中心的排氣管，設(shè)置在所述頂板下且繞所述排氣管均布的數(shù)個擋板，此擋板垂直于所述頂板底面和排氣管的管壁。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的下箱體的錐角α為60°~120°。 3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的數(shù)個出水孔至少為8個。 4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的高壓清洗噴嘴為0°~65°扇形水流噴嘴，所述高壓清洗噴嘴的水壓為0.2MPa~0.25MPa，所述高壓清洗噴嘴的水流量大于等于2L/s~4.8L/s。 5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的導(dǎo)流錐的底面直徑大于所述的排氣止旋器的頂板的直徑。 6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的出料管的管內(nèi)徑與所述的進料管的管內(nèi)徑相同。 7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的排氣管的管內(nèi)徑=（1/6~1/4）×出料管的管內(nèi)徑。 8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的充填下料裝置，其特征在于所述的數(shù)個擋板至少為4個，每個擋板的斜邊與所述排氣管中心線夾角β=1/2α。 9.利用充填下料裝置的填充下料方法，其特征在于包括如下步驟： （1）充填下料前，先開啟供水管，浸潤充填下料裝置內(nèi)壁及下游管道； （2）下料的同時關(guān)閉供水管，充填料漿通過進料管進入上箱體，經(jīng)導(dǎo)流錐導(dǎo)流后，沿導(dǎo)流錐向四周均勻流淌，并經(jīng)格篩篩除大塊兒或雜物，然后進入下箱體，再經(jīng)排氣止旋器各擋