一種制備納米多孔金屬薄膜的方法,通過磁控濺射工藝制備。本發(fā)明的方法制作工藝簡單,并可以常溫下制備出納米多孔金屬薄膜;所制備的多孔金屬薄膜具有超薄、比表面積大、活性高、膜層均勻、易于微器件集成等特點(diǎn),可以應(yīng)用于催化、新能源領(lǐng)域,并可以直接作為超級(jí)電容器材料制備微型電容電極。
聲明:
“磁控濺射制備納米多孔金屬薄膜的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)