權(quán)利要求 1.銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置，其特征在于，包括原料配制裝置本體(1)、頂部電機(jī)(2)、轉(zhuǎn)動(dòng)軸(3)、帶動(dòng)環(huán)(4)、皮帶(5)、萃取軸(6)、電機(jī)軸(7)、萃取劑室(8)、萃取劑入口(9)、防震板(10)、反萃劑室(11)、反萃劑入口(12)、第一排液口(13)、萃取室(14)、萃取劑排放口(15)、電磁閥(16)、聯(lián)軸器(17)、電積室(18)、第二排液口(19)、反萃劑排放口(20)、卸料口(21)、底部電機(jī)(22)、底部轉(zhuǎn)動(dòng)軸(23)、底部帶動(dòng)環(huán)(24)、底部皮帶(25)、彈簧(26)、夾緊塊(27)、底軸(181)和頂軸(141)； 所述頂部電機(jī)(2)設(shè)于原料配制裝置本體(1)頂部，所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸(3)設(shè)于頂部電機(jī)(2)底部，所述帶動(dòng)環(huán)(4)設(shè)于轉(zhuǎn)動(dòng)軸(3)外壁，所述皮帶(5)設(shè)于帶動(dòng)環(huán)(4)外壁，所述萃取軸(6)設(shè)于頂部電機(jī)(2)左側(cè)，所述電機(jī)軸(7)設(shè)于頂部電機(jī)(2)右側(cè)，所述萃取劑室(8)設(shè)于頂部電機(jī)(2)底部，所述萃取劑入口(9)設(shè)于萃取劑室(8)頂部，所述防震板(10)設(shè)于萃取劑室(8)右側(cè)，所述反萃劑室(11)設(shè)于防震板(10)右側(cè)，所述反萃劑入口(12)設(shè)于反萃劑室(11)頂部，所述第一排液口(13)設(shè)于萃取劑室(8)底部，所述萃取室(14)設(shè)于萃取劑室(8)底部，所述萃取劑排放口(15)設(shè)于萃取室(14)左側(cè)外壁，所述電磁閥(16)設(shè)于萃取室(14)底部，所述聯(lián)軸器(17)設(shè)于電磁閥(16)兩側(cè)，所述電積室(18)設(shè)于萃取室(14)底部，所述第二排液口(19)設(shè)于反萃劑室(11)底部，所述電積室(18)和反萃劑室(11)通過第二排液口(19)連接，所述反萃劑排放口(20)設(shè)于電積室(18)左側(cè)外壁，所述卸料口(21)設(shè)于電積室(18)右側(cè)外壁，所述底部電機(jī)(22)設(shè)于電積室(18)底部，所述底部轉(zhuǎn)動(dòng)軸(23)設(shè)于底部電機(jī)(22)底部，所述底部帶動(dòng)環(huán)(24)設(shè)于底部轉(zhuǎn)動(dòng)軸(23)外壁，所述底部皮帶(25)設(shè)于底部帶動(dòng)環(huán)(24)外壁，所述底軸(181)設(shè)于聯(lián)軸器(17)底部，所述頂軸(141)設(shè)于聯(lián)軸器(17)頂部，所述底軸(181)與頂軸(141)通過聯(lián)軸器(17)連接，所述彈簧(26)設(shè)于防震板(10)內(nèi)部，所述夾緊塊(27)設(shè)于底軸(181)頂部。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅礦萃取電積生產(chǎn)工藝用原料配制裝置