本實用新型公開了一種大型臥式真空還原爐，包括：還原爐，所述還原爐內安裝有密封上料結構、攪拌結構以及密封結構；所述密封上料結構包含有：一對結構相同的上料圓柱箱、一對結構相同的密封軸、四對結構相同的密封板、一對結構相同的密封驅動機、一對結構相同的密封驅動齒輪以及一對結構相同的密封傳動齒輪；本實用新型涉及真空還原爐技術領域,通過密封上料結構對還原爐進行密封上料，避免了還原爐內化學反應時，排放出部分氣體，通過密封結構對還原爐與一對上料圓柱箱進行密封，通過擠壓一對L型密封板對一對伸縮移動密封口進行高壓擠壓密封，通過攪拌結構將還原爐內的還原原料攪拌均勻。