本發(fā)明涉及在旋轉或舟形爐中，通過使用氫作為 還原劑，還原鉬酸銨或三氧化鉬得到的高純 MoO2粉末。將通過壓制/燒結、 熱壓和/或HIP進行的粉末固結用來制備圓盤、厚塊或板，該 圓盤、厚塊或板用作濺射靶。使用適宜的濺射方法或其它物理 方式將該MoO2圓盤、厚塊或板 形式濺射在基底上，從而提供具有期望膜厚的薄膜。就透射率、 導電率、功函數(shù)、均勻性以及表面糙度而言，該薄膜具有與氧 化銦錫(ITO)和摻鋅ITO可比或優(yōu)于其的性能如電的、光的、 表面粗糙度以及均勻性?？蓪⒃?MoO2和含該 MoO2的薄膜用在有機發(fā)光二極 管(OLED)、液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示板(PDP)、場致 發(fā)射顯示器(FED)、薄膜太陽能電池、低電阻率歐姆接觸以及 其它電子和半導體器件中。