本發(fā)明涉及一種基于比較法校準(zhǔn)正壓漏孔的分子流進(jìn)樣系統(tǒng)及控制方法,提出基于動態(tài)分子流進(jìn)樣方法和累積分子流進(jìn)樣方法相結(jié)合的示漏氣體進(jìn)樣系統(tǒng)和方法,在漏孔泄漏的氣體累積一段時(shí)間后,在一套比較法正壓漏孔校準(zhǔn)系統(tǒng)上、實(shí)現(xiàn)了動態(tài)比較和累積比較兩種質(zhì)譜分析方法的分子流進(jìn)樣,突破了比較法校準(zhǔn)正壓漏孔質(zhì)譜分析進(jìn)樣的關(guān)鍵技術(shù),并且解決了累積法條件下、正壓漏孔校準(zhǔn)過程中混合氣體分子流進(jìn)樣和微量He氣累積測量的技術(shù)難題。
聲明:
“基于比較法校準(zhǔn)正壓漏孔的分子流進(jìn)樣系統(tǒng)及控制方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)