本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鈣鈦礦納米晶隨機(jī)激光發(fā)射機(jī)制的探測(cè)裝置，包括：激光器、工作臺(tái)、光纖探頭、透鏡、光譜儀，工作臺(tái)用于放置用銫鉛溴納米晶膠體溶液干結(jié)而成納米晶薄膜，透鏡的焦面位于工作臺(tái)的臺(tái)面上，激光器用于發(fā)出400nm的激光，激光通過(guò)透鏡聚焦在所述納米晶薄膜上，光纖探頭的探測(cè)端的中軸線與所述臺(tái)面呈10?60度夾角，所述光纖探頭用于接收所述納米晶薄膜的發(fā)射光，并將所述發(fā)射光傳送給光譜儀。通過(guò)在工作臺(tái)上放置納米晶薄膜，利用激光器發(fā)出400nm的激光，使得納米晶薄膜應(yīng)激發(fā)出發(fā)射光，通過(guò)與臺(tái)面呈一定角度的光纖探頭對(duì)所述發(fā)射光進(jìn)行接收，并將發(fā)射光傳送給光譜儀，通過(guò)光譜儀完成對(duì)發(fā)射光的探測(cè)。本裝置可用于隨機(jī)激光發(fā)射試驗(yàn)中。