本發(fā)明公開(kāi)了一種亞波長(zhǎng)光子篩聚焦性能檢測(cè)方法。該檢測(cè)方法采用曝光法和掃描法相結(jié)合的混合檢測(cè)系統(tǒng),由激光光源、擴(kuò)束準(zhǔn)直系統(tǒng)、亞波長(zhǎng)光子篩、已涂有光刻膠的硅片、真空泵、工件臺(tái)、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)組成;其中,工件臺(tái)由PI公司的二維工件臺(tái)和壓電陶瓷共同組成,二維工件臺(tái)用于粗調(diào),壓電陶瓷用于精調(diào);工件臺(tái)的運(yùn)動(dòng)方向及步進(jìn)值由計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)的軟件進(jìn)行設(shè)置,其中X方向控制焦距的步進(jìn),Y方向控制聚焦光斑的移動(dòng)。本發(fā)明的檢測(cè)方法的測(cè)量精度不受CCD像素間距的影響,無(wú)需光學(xué)放大環(huán)節(jié),不改變光斑在空間的實(shí)際能量分布。
聲明:
“一種亞波長(zhǎng)光子篩聚焦性能檢測(cè)方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)