本發(fā)明提供了一種微區(qū)力致發(fā)光測量系統(tǒng),包括力致發(fā)光模塊、光源、第一電動反射鏡、第二電動反射鏡、相機和光譜儀,可以進行受外部光源光激活后的發(fā)光材料的力致發(fā)光性能檢測。發(fā)光材料經(jīng)力致發(fā)光模塊加壓發(fā)射的熒光先進入相機進行發(fā)光面積成像,由外部程序計算力致發(fā)光實際面積,與壓力傳感器測得壓力共同計算得到發(fā)光材料所受壓強;然后通過切換電動反射鏡角度,發(fā)光材料經(jīng)力致發(fā)光模塊加壓發(fā)射的熒光被電動反射鏡反射進入光譜儀得到光譜數(shù)據(jù),經(jīng)過分析處理得到發(fā)光材料在各壓強下的力致發(fā)光特性。所述微區(qū)力致發(fā)光測量系統(tǒng)可以對發(fā)光材料力致發(fā)光區(qū)域進行精準成像,實現(xiàn)高精度的發(fā)光材料力致發(fā)光性能檢測。
聲明:
“一種微區(qū)力致發(fā)光測量系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)