本發(fā)明公開了一種化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)及其方法。該化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)包含一拋光墊,將其設(shè)置成為從第一點(diǎn)移動(dòng)至第二點(diǎn)。也包含一承載件,且將其設(shè)置成為夾持住待拋光的襯底而至該拋光墊上。將該承載件設(shè)置成在位于該第一點(diǎn)與該第二點(diǎn)之間的拋光位置上將該襯底施加到該拋光墊。第一傳感器位于該第一點(diǎn)并定向成能感測(cè)該拋光墊的IN溫度,且第二傳感器位于該第二點(diǎn)上并定向成能感測(cè)該拋光墊的OUT溫度。將該IN及OUT溫度的檢測(cè)設(shè)置成為產(chǎn)生溫度差,從而允許在通過化學(xué)機(jī)械平坦化處理晶片時(shí),監(jiān)控處理狀態(tài)及晶片表面狀態(tài)用以切換處理步驟。