提供用于調(diào)節(jié)CMP系統(tǒng)中的研磨墊的設(shè)備與方法。在一實(shí)施例中，提供一種用于研磨基材的設(shè)備。此設(shè)備包含可旋轉(zhuǎn)平臺與調(diào)節(jié)裝置，該可旋轉(zhuǎn)平臺與調(diào)節(jié)裝置耦接到基座。調(diào)節(jié)裝置包含軸桿，該軸桿藉由第一馬達(dá)可旋轉(zhuǎn)地耦接到基座?？尚D(zhuǎn)調(diào)節(jié)頭藉由臂耦接到軸桿。調(diào)節(jié)頭耦接到第二馬達(dá)，該第二馬達(dá)控制調(diào)節(jié)頭的旋轉(zhuǎn)。提供一或更多個測量裝置，該一或更多個測量裝置可運(yùn)作地用于感測軸桿相對于基座的旋轉(zhuǎn)力量指標(biāo)以及調(diào)節(jié)頭的旋轉(zhuǎn)力量指標(biāo)。