本發(fā)明公開了一種室溫鐵電薄膜紅外焦平面探測(cè)器的吸收層及制備方法,所說的吸收層是置在焦平面探測(cè)器的上電極層上的,或者是置在焦平面探測(cè)器的鐵電薄膜上的鈦與二氧化鈦混合的多孔薄層。制備方法首先采用直流磁控濺射方法將金屬Ti濺射鐵電薄膜上或上電極層上,然后利用化學(xué)腐蝕的方法,將鈦膜腐蝕成多孔態(tài),目的是為了降低薄膜中自由電子密度,將其等離子吸收邊調(diào)節(jié)到探測(cè)器應(yīng)用的紅外波長(zhǎng)。薄膜多孔結(jié)構(gòu)中高密度的表面態(tài)對(duì)入射進(jìn)來的電磁波進(jìn)一步吸收使之不同于通常金屬。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn):與常規(guī)的金黑吸收層工藝相比,本吸收層制備工藝簡(jiǎn)單,可以通過光刻以及腐蝕或干法刻蝕等途徑制備成分立靈敏元結(jié)構(gòu)。