本發(fā)明公開了一種智能清洗薄膜沉積腔室的方法及系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括采集模塊、處理分析模塊和清洗模塊；采集模塊通過傅里葉紅外光譜儀采集腔室內(nèi)部含硅元素化學(xué)鍵的紅外光譜圖；處理分析模塊根據(jù)紅外光譜分析結(jié)果得出含硅元素化學(xué)鍵的實際強(qiáng)度值，通過比較實際強(qiáng)度值與預(yù)設(shè)強(qiáng)度值的大小，處理分析模塊做出是否需要清洗腔室的指示，清洗模塊針對各個含硅元素化學(xué)鍵進(jìn)行清洗工作。本發(fā)明提供的智能清洗薄膜沉積腔室的方法及系統(tǒng)，保證腔室在工作狀態(tài)下保持實時的清潔環(huán)境，有效地控制每片晶圓在工藝過程中腔室環(huán)境的一致性，顯著提升薄膜沉積設(shè)備在連續(xù)晶圓生產(chǎn)中的工藝穩(wěn)定性。