本發(fā)明公開了一種金屬氫化物薄片制備方法，目的在于解決輕金屬氫化物在大氣環(huán)境極易與水發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，常規(guī)砂紙打磨方法制備的金屬氫化物薄片會(huì)在其表面生成水解產(chǎn)物，造成太赫茲特征波失真，并影響相關(guān)材料內(nèi)部缺陷無損檢測(cè)效果的問題。本發(fā)明為了獲得準(zhǔn)確的金屬氫化物內(nèi)部缺陷無損檢測(cè)結(jié)果，開發(fā)了一種用于提取太赫茲特征波的金屬氫化物薄片制備方法。該方法首先利用化學(xué)氣相沉積技術(shù)（CVD）在金屬氫化物圓片表面形成一層致密的防水高分子膜，然后再將試件置于金相制樣機(jī)進(jìn)行處理，最終在薄片新磨制面化學(xué)氣相沉積防水膜，獲得用于提取太赫茲特征波的金屬氫化物薄片。經(jīng)實(shí)際測(cè)定，本發(fā)明能夠有效解決前述問題，保證測(cè)定結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。