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在離子注入工藝中通過引入氣體而減輕污染和改變表面特性的方法和系統(tǒng)

1098 編輯：管理員來源：中冶有色網(wǎng)

2023-03-19 07:33:29

在離子注入工藝中通過引入氣體而減輕污染和改變表面特性的方法和系統(tǒng)。一種用于離子注入工藝的污染減輕或表面改變系統(tǒng),包含:氣體源(209)、控制器(204)、閥(210)以及處理室(111)。該氣體源傳送氣體給該閥,該氣體為大氣氣體或反應(yīng)氣體而且受控于該控制器。該閥設(shè)置在該處理室的上或附近,并且以可控制的方式來調(diào)整被傳送至該處理室的氣體的流速和/或組成。該處理室固定目標(biāo)裝置例如目標(biāo)晶片,并且使該氣體與離子束反應(yīng)而減輕該目標(biāo)晶片的污染,和/或改變該處理環(huán)境或該目標(biāo)裝置的既有性質(zhì)以變更其物理或化學(xué)狀態(tài)或特性。該控制器根據(jù)存在于該離子束內(nèi)的污染物、或是不存在該污染物的情形、以及總壓或分壓分析來選擇與調(diào)整該氣體的組成以及流速。

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聲明：

“在離子注入工藝中通過引入氣體而減輕污染和改變表面特性的方法和系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術(shù)所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)