本實用新型公開了一種薄膜制備設(shè)備，包括：將注入反應(yīng)液進行化學(xué)沉積反應(yīng)的反應(yīng)槽(10)；設(shè)置在反應(yīng)槽(10)外部的循環(huán)裝置(20)，循環(huán)裝置(20)的一端與反應(yīng)槽(10)底部連通，另一端與反應(yīng)槽(10)上部連通，循環(huán)裝置(20)將經(jīng)反應(yīng)槽(10)上部溢出的反應(yīng)液輸送至外部加熱器加熱，然后經(jīng)反應(yīng)槽(10)底部的注液口注入該反應(yīng)液，還包括：至少一個加熱裝置(30)，設(shè)置在反應(yīng)槽(10)下部或底部外側(cè)，用于非接觸地對反應(yīng)槽(10)內(nèi)的反應(yīng)液加熱；測溫儀(40)，設(shè)置在反應(yīng)槽(10)上部出口附近，用于檢測反應(yīng)槽(10)溢流反應(yīng)液的溫度。采用本實施方案，有效地解決加熱時延問題，并使反應(yīng)槽(10)內(nèi)反應(yīng)液迅速升溫的同時溫度均勻分布。