本發(fā)明公開了一種氮、硼共摻雜石墨烯復合薄膜及其制備方法，屬于透明導電薄膜材料領域。提供的氮、硼共摻雜石墨烯復合薄膜的制備方法包括在CVD法制備石墨烯薄膜時第一次摻雜適量氮硼和在將氮、硼共摻雜石墨烯引入目標基體時的第二次摻雜過程，兩次摻雜工藝簡單，摻雜劑摻雜穩(wěn)定，使得制備得到的氮、硼共摻雜石墨烯復合薄膜不僅具有較小的厚度，還具有較低的方阻，可以直接應用于高性能復合材料、柔性顯示與柔性電子器件、電化學儲能、光電檢測與傳感器等領域。