本實(shí)用新型公開(kāi)了一種光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,通過(guò)設(shè)置位于襯底上的前層結(jié)構(gòu),該前層結(jié)構(gòu)中形成有沿第一方向相互平行且間隔排列的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記;位于前層結(jié)構(gòu)上的覆蓋結(jié)構(gòu),該覆蓋結(jié)構(gòu)中形成有多個(gè)沿第二方向相互平行的條形開(kāi)口,其中,第一方向與第二方向不同,條形開(kāi)口的延伸方向與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的延伸方向呈夾角,且條形開(kāi)口與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記部分重疊,以使得條形開(kāi)口與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的重疊部分作為光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。通過(guò)設(shè)置與第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記延伸方向呈夾角的多個(gè)、較小開(kāi)口寬度的條形開(kāi)口,可以有效避免后制程中在光刻對(duì)準(zhǔn)區(qū)域上沉積材料層形成凹陷,避免化學(xué)機(jī)械研磨中對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的損壞,以及濾除非檢測(cè)方向上的信號(hào)干擾。
聲明:
“光刻對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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