提供一種裝置和方法,該裝置和方法用于在化學氣相沉積反應室內(nèi)提供充分均勻的襯底溫度。該方法和裝置利用一個基架(110)固定反應室內(nèi)的襯底(160),以及將多個加溫元件(120,130,140)安置成能加熱該基架和襯底。襯底高溫計(138,139)測量襯底的溫度以提供一個表示加工溫度的信號。該信號用在反饋回路(151,134,132)中,控制一個或多個加溫元件。提供至少兩個對準在基架不同區(qū)域的基架高溫計(126,136,146)。比較來自基架高溫計的信號以提供一個不均勻溫度的指示。該指示用于一個單獨的反饋回路(149,124,122)內(nèi),調(diào)整其他的加溫元件,以保持基架上溫度的均勻性。