本發(fā)明公開了一種片上集成光波導結構及制備方法，其制備包括鈮酸鋰薄膜表面上鍍金屬鉻膜、飛秒激光直寫鉻膜層、化學機械拋光、反應離子刻蝕以及鉻膜腐蝕等步驟。本發(fā)明方法制備流程結合了化學機械拋光的側壁及表面光潔度以及反應離子刻蝕的側壁陡直度的優(yōu)勢，可大規(guī)模制備高度復雜且具有高精密結構的片上集成光子器件，包括光學調制器、波分復用器、微型激光器、濾波器，在光通信、量子計算、精密測量等領域具有重要的應用前景。