本實(shí)用新型提供了一種校正裝置，應(yīng)用于干法刻蝕機(jī)臺以及化學(xué)氣相沉積機(jī)臺真空腔體中的靜電吸附盤上，靜電吸附盤包括一吸附盤本體，以及設(shè)置于吸附盤本體上的一承托臺，承托臺的橫基面呈圓形，承托臺的頂部用以放置一晶圓，其中，校正裝置包括：一中空的圓形柱體，用以套設(shè)于所承托臺上；環(huán)形出部，水平的環(huán)設(shè)于圓形柱體的靠近承托臺的一端的頂部，環(huán)形突出部的頂面形成一測量面；測量面與承托臺的頂面位置齊平；多個刻度尺，徑向均布于測量面上。其技術(shù)方案的有益效果在于，可根據(jù)測量面上的多個刻度尺測量出放置于承托臺頂面的晶圓樣品是否出現(xiàn)位置偏移以及具體的偏移量，方便使用者對機(jī)臺真空腔體中進(jìn)行針對性的校正，提高了校正精度。