本實用新型提供了一種機臺腔體監(jiān)控裝置，包括：溫度傳感器，用以測量腔體內(nèi)半導體上覆蓋的液體層的溫度；圖形傳感器，用以測量腔體內(nèi)半導體上覆蓋的液體層的形態(tài)。據(jù)此，采用本實用新型提供的機臺腔體的監(jiān)控裝置，能夠直接監(jiān)控清洗或濕法刻蝕化學反應處的實時溫度、實時反應物接觸情況（液體膜層在半導體上覆蓋的情況），從而能夠采集到對工藝影響的更直接的技術(shù)參數(shù)，提升了清洗或濕法刻蝕工藝的工藝精度，擴大了該工藝的適用半導體加工的技術(shù)節(jié)點范圍。