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具有高遷移率的非金屬共摻雜ZnO透明導(dǎo)電薄膜及其制備方法

1238   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色網(wǎng)  
2023-03-19 08:56:51
本發(fā)明公開了一種具有高遷移率的非金屬共摻雜ZnO透明導(dǎo)電薄膜,該薄膜為生長(zhǎng)于柔性襯底上的ZnO基薄膜,其化學(xué)組成為Zn1-x-yAxByO,其中0< x≦0.50,0< y≦0.40, ?A為氟、氯、硫、硒中的一種,B為硼、氫中的一種,且A和B的原子比例滿足1< x : y≦10。制備該薄膜采用射頻磁控濺射法,通過(guò)結(jié)合氫等離子處理和真空熱退火的手段,從而制得導(dǎo)電性能良好的透明導(dǎo)電薄膜。本發(fā)明制備的薄膜結(jié)晶性能好,薄膜生長(zhǎng)平整,光透過(guò)率在80%以上,電阻率可降至10-3數(shù)量級(jí),方阻可達(dá)到81.9??蓱?yīng)用在太陽(yáng)能電池前電極、薄膜晶體管、紫外探測(cè)器、透明顯示屏等領(lǐng)域。
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