本發(fā)明的目的是提供放射線敏感性組合物等,該組合物能夠形成化學(xué)增幅型正型抗蝕劑膜,該膜能有效感應(yīng)活性光線或放射線、納米邊緣粗糙度和靈敏度優(yōu)異、可高精度且穩(wěn)定地形成微細(xì)圖案。本發(fā)明的組合物包含含酸解離性基團(tuán)的聚合物(A)、和酸產(chǎn)生劑(B),所述含酸解離性基團(tuán)的聚合物(A)為堿不溶性或難溶性且通過酸的作用成為堿易溶性,作為聚合物(A),包含含有式(1)的重復(fù)單元且以GPC測(cè)定的重均分子量為3000～100000的聚合物。式(1)中,R1表示氫原子或甲基,R2表示取代或無取代的碳原子數(shù)為1～20的直鏈狀或支鏈狀的1價(jià)烷基、碳原子數(shù)為3～25的脂環(huán)式基團(tuán)或碳原子數(shù)為6～22的芳基,X表示取代或無取代的亞甲基或碳原子數(shù)2～25的取代或無取代的直鏈狀、支鏈狀或脂環(huán)式的烴基。