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多晶硅生產(chǎn)

865   編輯:管理員   來源:中冶有色網(wǎng)  
2023-03-19 08:57:00
本發(fā)明涉及化學氣相沉積(CVD)反應(yīng)器系統(tǒng),其具有由反應(yīng)室壁圍住的反應(yīng)室,所述反應(yīng)室壁的內(nèi)表面被布置為朝向所述室的內(nèi)部。至少一部分所述壁為朝向所述室的熱控層,并且所述熱控層由材料例如電解沉積的鎳構(gòu)成,所述材料在300K下測得的發(fā)射系數(shù)為0.1以下并且硬度為至少3.5Moh。使用這樣的CVD反應(yīng)器系統(tǒng)從富含硅的氣體生產(chǎn)多晶硅。
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