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基于剪切散斑干涉的光學(xué)離面位移場測量裝置及測量方法

751   編輯:管理員   來源:中冶有色網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:26
本發(fā)明公開了一種基于剪切散斑干涉的光學(xué)離面位移場測量裝置,包括設(shè)有鏡頭、光圈調(diào)節(jié)裝置和聚焦調(diào)節(jié)裝置的攝像機、第一半透半反鏡、第二半透半反鏡、第三半透半反鏡、第一反射鏡、第二反射鏡、第三反射鏡、壓電陶瓷器、電壓控制器和計算機。同時,本發(fā)明還公開了一種基于剪切散斑干涉的光學(xué)離面位移場測量裝置的測量方法,包括以下步驟:步驟1.調(diào)試測試裝置;步驟2.在被測樣品發(fā)生變形前,采集相移圖;步驟3.在被測樣品發(fā)生變形后,采集相移圖;步驟4.測量離面位移梯度場;步驟5.測量出離面位移場。使用該測量裝置進行光學(xué)離面位移場測量,可以使被測樣品表面無損、全場測量、分辨率高、測量結(jié)果穩(wěn)定,且便于現(xiàn)場測量。
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“基于剪切散斑干涉的光學(xué)離面位移場測量裝置及測量方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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