本實(shí)用新型公開(kāi)了一種磁環(huán)高度和尺寸綜合測(cè)量設(shè)備,涉及測(cè)量設(shè)備設(shè)計(jì)技術(shù)領(lǐng)域,本實(shí)用新型包括綜合測(cè)量設(shè)備框架、激光測(cè)距儀、視覺(jué)測(cè)量?jī)x、待測(cè)平臺(tái)以及總控機(jī)箱,綜合測(cè)量設(shè)備框架包括激光測(cè)距儀固定架以及相機(jī)高度調(diào)節(jié)架,激光測(cè)距儀包括滑動(dòng)電機(jī),激光測(cè)距儀固定架一表面設(shè)有滑槽,滑動(dòng)電機(jī)一端與滑槽滑動(dòng)配合,視覺(jué)測(cè)量?jī)x包括相機(jī)固定架,相機(jī)固定架一表面與相機(jī)高度調(diào)節(jié)架通過(guò)螺紋螺孔連接,綜合測(cè)量設(shè)備框架下表面設(shè)有定位孔,待測(cè)平臺(tái)一表面與定位孔旋轉(zhuǎn)配合,待測(cè)平臺(tái)包括傳動(dòng)履帶,傳動(dòng)履帶一表面與旋轉(zhuǎn)軸滑動(dòng)配合,本實(shí)用新型中,無(wú)損測(cè)量保證產(chǎn)品生產(chǎn)質(zhì)量,本發(fā)明有效的融合兩者的功能,將2臺(tái)設(shè)備綜合成一臺(tái)。
聲明:
“磁環(huán)高度和尺寸綜合測(cè)量設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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