在本發(fā)明提供一種監(jiān)測存儲介質(zhì)厚度異常的方法及裝置,該方法包括:采集存儲介質(zhì)的實際光譜;將其與目標薄膜層對應的第一回歸擬合模型中的第一擬合光譜進行擬合,獲得每個第一擬合光譜與上述實際光譜的第一回歸擬合優(yōu)度;其中,第一回歸擬合模型包括該存儲介質(zhì)中目標薄膜層的多個第一預設厚度值,以及每個第一預設厚度值對應的第一擬合光譜,第一回歸擬合優(yōu)度表征目標層對應的第一擬合光譜和實際光譜的相似程度;當最大的第一回歸擬合優(yōu)度小于第一閾值時,監(jiān)測到所述存儲介質(zhì)的厚度異常。可見,該方案能夠?qū)Υ鎯橘|(zhì)的厚度異常,進行有效地、無損傷地、實時在線地監(jiān)測,并將厚度異常的信號反饋給工藝部門,優(yōu)化工藝控制。
聲明:
“監(jiān)測存儲介質(zhì)厚度異常的方法及裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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