本發(fā)明涉及電子科學(xué)與技術(shù)的技術(shù)領(lǐng)域,更具體地,涉及一種全電極凸紋結(jié)構(gòu)CMUT器件的制備方法,將高濃度摻雜的硅晶圓作為基底,使用表面微加工技術(shù)和電鍍工藝,依次在基底上制備絕緣層、空腔、振動(dòng)薄膜、凸紋結(jié)構(gòu)的圓環(huán),全覆蓋于振動(dòng)薄膜的頂電極、底電極極板及導(dǎo)線,完成全電極凸紋結(jié)構(gòu)CMUT器件的制備。本發(fā)明制備的全電極凸紋結(jié)構(gòu)CMUT器件,在塌陷工作模式下能有效提升輸出聲壓從而達(dá)到增加超聲波發(fā)射功率的效果;該制備方法技術(shù)成熟,適合大批量制造。該發(fā)明可用于生物醫(yī)學(xué)檢測、工業(yè)無損探傷等使用超聲檢測領(lǐng)域中超聲換能器的加工制造,并將推進(jìn)基于CMUT器件的超聲探頭技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用,具備廣闊的市場應(yīng)用前景。
聲明:
“全電極凸紋結(jié)構(gòu)CMUT器件的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)