本實(shí)用新型主要涉及一種用于釹鐵硼磁體的鍍膜設(shè)備，專用鍍膜設(shè)備的基本原理為雙層輝光等離子表面冶金，其主要特點(diǎn)是結(jié)構(gòu)包括真空室，真空室中部平行等距且相互絕緣的源極和陰極，源極和陰極外的隔熱柵，真空室上方的陽(yáng)極，真空室下方的氬氣入口以及真空室后方的真空系統(tǒng)，真空室外的測(cè)溫系統(tǒng)；表面生成的金屬膜層厚度均勻且金屬靶材的利用率高，整個(gè)鍍膜過(guò)程中溫度相對(duì)偏低，對(duì)磁體的損害較小，可控性強(qiáng)，無(wú)污染，對(duì)人體無(wú)損害，設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，靶材限制性小。