一種實(shí)時(shí)動態(tài)無損測試儲層zeta電位的方法,清潔處理二氧化硅半球樣品,放置二氧化硅樣品進(jìn)入樣品池;啟動二次諧波光譜設(shè)備,并開始進(jìn)行波數(shù)和能量檢查;首先測試二氧化硅半球單獨(dú)存在下去離子水和目標(biāo)溶液的二次諧波光譜信號強(qiáng)度;放置儲層樣品進(jìn)入樣品池,獲取總體樣品存在下的信號強(qiáng)度:測量的總體樣品信號強(qiáng)度減去二氧化硅樣品強(qiáng)度得到儲層的二次諧波樣品強(qiáng)度;二次諧波信號強(qiáng)度歸一化處理;進(jìn)行儲層二次諧波的pH滴定實(shí)驗(yàn),獲取儲層等電點(diǎn)(pzc)性質(zhì),依次確定二階磁化率的大小χ(2);數(shù)學(xué)計(jì)算得到儲層的zeta電位;本發(fā)明能夠?qū)崟r(shí)動態(tài)無損測試在任何溶液環(huán)境下儲層的zeta電位,彌補(bǔ)了以往zeta電位儀測量在高濃度和高pH值失效的不足。
聲明:
“實(shí)時(shí)動態(tài)無損測試儲層zeta電位的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)