本發(fā)明公開了一種用于集成電路版圖失效區(qū)域定位的版圖關(guān)鍵區(qū)域提取方法,包括確定需要提取關(guān)鍵區(qū)域的版圖層次,對提取版圖層次按格點(diǎn)窗口劃分規(guī)則進(jìn)行格點(diǎn)窗口劃分,提取每個格點(diǎn)窗口內(nèi)圖形的線寬積值和間距積值,在歷史成熟穩(wěn)定生產(chǎn)產(chǎn)品中提取被定義成關(guān)鍵區(qū)域的積值閾值,所述積值閾值包括線寬積值閾值和間距積值閾值,根據(jù)積值閾值判斷各格點(diǎn)窗口內(nèi)圖形是否為關(guān)鍵區(qū)域,并將關(guān)鍵區(qū)域提取。本發(fā)明還公開了一種版圖關(guān)鍵區(qū)域提取系統(tǒng)。本發(fā)明能快速準(zhǔn)確定位版圖關(guān)鍵區(qū)域,相比現(xiàn)有技術(shù)能將新產(chǎn)品版圖中的關(guān)鍵區(qū)域至少縮小為原先版圖的30%,節(jié)約后續(xù)失效分析70%的周期時間,大大提升制造者的經(jīng)濟(jì)效益。
聲明:
“版圖關(guān)鍵區(qū)域提取方法及其提取系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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