本發(fā)明提供一種平面TEM樣品的制作方法，包括：提供TEM樣品，所述TEM樣品上具有目標區(qū)域；對所述TEM樣品進行平面研磨至金屬互連層；對所述TEM樣品進行截面研磨至TEM樣品的邊緣距離目標區(qū)域2-10微米；采用第一溶液去除金屬互連層中的金屬線，在所述金屬互連層從中形成孔洞；采用第二溶液去除所述孔洞下方的源漏摻雜區(qū)域；使用FIB方法對所述TEM樣品進行制作，形成平面TEM樣品，所述平面TEM樣品露出孔洞下方的源漏摻雜區(qū)域用于失效分析。本發(fā)明能夠解決平面TEM上無法觀察源漏摻雜區(qū)域的難題。