VTL1200(1200度流化床管式爐)
VTL1200 流化床立式管式爐簡(jiǎn)介
VTL1200 是一款專門設(shè)計(jì)用于粉末表面沉積的立式管式爐,特別適合進(jìn)行 CVD 實(shí)驗(yàn)和粉末包覆等應(yīng)用。它采用高純石英管,內(nèi)部設(shè)有多孔石英板,能夠?qū)崿F(xiàn)顆粒在加熱區(qū)域的懸浮與均勻包覆。
功能與原理
氣體從爐管的下端進(jìn)入,通過多孔石英板(孔徑約為 10 μm)均勻地進(jìn)入反應(yīng)區(qū)域。
石英板上放置粉末樣品,通入的氣體使樣品顆粒懸浮在加熱區(qū)域,實(shí)現(xiàn)均勻的包覆和反應(yīng)。
設(shè)備內(nèi)的四周加熱設(shè)計(jì)確保溫場(chǎng)均衡,提高實(shí)驗(yàn)精度。
適用領(lǐng)域與實(shí)驗(yàn)
CVD 實(shí)驗(yàn):用于在粉末顆粒表面沉積薄膜或其他材料。
粉末包覆:用于在顆粒上均勻包覆材料,廣泛應(yīng)用于
新材料研發(fā)和性能優(yōu)化。
高溫反應(yīng)實(shí)驗(yàn):適合需要精確控制溫度和氣體流量的高溫化學(xué)反應(yīng)。
VTL1200 具有以下優(yōu)點(diǎn):
高精度溫控:采用先進(jìn)的溫控系統(tǒng),能夠精確控制溫度,確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性。
溫場(chǎng)均衡:四周加熱設(shè)計(jì),確保加熱區(qū)域溫場(chǎng)分布均勻,提升實(shí)驗(yàn)的均勻性和重復(fù)性。
靈活配置:多孔石英板可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求調(diào)整,滿足不同類型粉末和氣體的實(shí)驗(yàn)要求。
安全保護(hù):配備多重安全保護(hù)機(jī)制,如過溫保護(hù)和漏電保護(hù),確保實(shí)驗(yàn)過程的安全。
技術(shù)參數(shù)