權(quán)利要求書: 1.一種回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:包括位于回轉(zhuǎn)窯內(nèi)的回轉(zhuǎn)盤,以及位于回轉(zhuǎn)窯出料時(shí)可靠近回轉(zhuǎn)盤的出料管,回轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有用于放置陶坯的環(huán)形片,出料管靠近回轉(zhuǎn)盤的一端設(shè)有出料門,所述環(huán)形片外緣設(shè)置有能夠頂開所述出料門的頂塊;所述出料管靠近回轉(zhuǎn)盤的一端設(shè)置有插片,所述插片的表面具有第一斜面和第二斜面,靠近回轉(zhuǎn)盤的所述第一斜面的長度小于遠(yuǎn)離回轉(zhuǎn)盤的所述第二斜面的長度;插片能夠插入環(huán)形片的下部使環(huán)形片向著出料管的一側(cè)傾斜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述出料門連接有壓縮彈簧,壓縮彈簧的另一端連接出料管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述插片的長度與環(huán)形片內(nèi)外徑差相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述環(huán)形片的內(nèi)緣固定于回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)軸上。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述回轉(zhuǎn)盤上設(shè)置有傳感器,所述出料管連接有氣缸,氣缸上設(shè)置有控制器,傳感器將數(shù)據(jù)發(fā)送到控制器,控制器控制氣缸使出料管做往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述環(huán)形片上部設(shè)置有隔板,所述隔板間隔設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,其特征在于:所述頂塊、出料管、插片、隔板和環(huán)形片上表面均涂有耐高溫材料碳化硅。
說明書: 一種回轉(zhuǎn)窯取陶裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本發(fā)明涉及陶瓷加工領(lǐng)域,具體為一種能夠在回轉(zhuǎn)窯中取陶的裝置。背景技術(shù)[0002] 回轉(zhuǎn)窯在建材、冶金、化工、環(huán)保等許多生產(chǎn)行業(yè)中,廣泛地使用。[0003] 回轉(zhuǎn)窯使用方便,通常用來加工水泥,陶瓷等,在回轉(zhuǎn)窯的使用中,需要將加工好的陶坯從回轉(zhuǎn)窯中取出,現(xiàn)有多采用傳送帶進(jìn)行傳送,需要人工將陶坯放到傳送帶上之后再經(jīng)過傳送帶的傳送將陶坯傳送到存儲區(qū)。傳送帶的傳送需要人工進(jìn)行取陶,而回轉(zhuǎn)窯在燒制時(shí)溫度較高在取陶時(shí)人身體靠近回轉(zhuǎn)窯會產(chǎn)生不適。傳送帶在傳送的過程中還會由于陶坯現(xiàn)不規(guī)則形狀,可能會從傳送帶上掉落而損壞。[0004] 這就需要研發(fā)一種能夠在回轉(zhuǎn)窯中自動(dòng)進(jìn)行取陶的裝置。發(fā)明內(nèi)容[0005] 本發(fā)明意在提供一種回轉(zhuǎn)窯取陶裝置,以達(dá)到自動(dòng)取陶的目的,還能在取陶的過程中不對陶坯造成損壞。[0006] 本方案中的一種回轉(zhuǎn)窯
聲明:
“回轉(zhuǎn)窯取陶裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)