權(quán)利要求書： 1.一種太陽能電池組件的制備方法，其包括：步驟A：在玻璃基底上制備鉬層； 步驟B：對所述鉬層進(jìn)行第一次刻劃，形成第一道刻線(P1)，并且第1個子電池與(n/2)+ 1電池的鉬層保持連接，第n/2個子電池與第n個子電池連接，其中，n為子電池的總數(shù)，且n為偶數(shù)； 步驟C：在完成第一次刻劃的鉬層上依次制備銅銦鎵硒層、硫化鎘層和本征氧化鋅層； 步驟D：在所述本征氧化鋅層上進(jìn)行第二次刻劃，將本征氧化鋅層、硫化鎘層以及銅銦鎵硒層同時刻斷，露出鉬層，形成第二道刻線(P2)，所述第二道刻線(P2)與第一道刻線(P1)保持平行； 步驟E：在完成第二次刻劃后的本征氧化鋅層上制備摻鋁氧化鋅層； 步驟F：在所述摻鋁氧化鋅層上進(jìn)行第三次刻劃，將摻鋁氧化鋅層、本征氧化鋅層、硫化鎘層以及銅銦鎵硒層同時刻斷，露出鉬層，形成第三道刻線(P3)，從而完成太陽能電池組件子電池的內(nèi)聯(lián)，所述第三道刻線(P3)和第一道刻線(P1)、第二道刻線(P2)保持平行； 步驟G：進(jìn)行第四次刻劃，在第n/2子電池右側(cè)沿第三道刻線(P3)刻劃形成刻線M。 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池組件，其特征在于，所述方法還包括：在步驟B中，還對鉬層進(jìn)行清邊處理，和/或在步驟G中，還對第三次刻劃之后的太陽能電池組件進(jìn)行清邊處理，將電池區(qū)域外邊緣的摻鋁氧化鋅層、本征氧化鋅層、硫化鎘層以及銅銦鎵硒層同時清除，露出鉬層。 3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的太陽能電池組件，其特征在于，所述第一道刻線(P1)一直刻劃到玻璃基底表面，使第一道刻線(P1)兩側(cè)的子電池完全絕緣；和/或所述第二道刻線(P2)將本征氧化鋅層、硫化鎘層以及銅銦鎵硒層完全刻斷，露出鉬層，并且不損傷鉬層表面；和/或 所述第三道刻線(P3)將摻鋁氧化鋅層、本征氧化鋅層、硫化鎘層、以及銅銦鎵硒層完全刻斷，露出鉬層，并且不損傷鉬層表面。 4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述第一道刻線(P1)的寬度為50-200微米；和/或所述第二道刻線(P2)的寬度為50-200微米；和/或所述第三道刻線的寬度為50-200微米；和/或所述刻線M的寬度為50-200微米。 5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述第一道刻線(P1)與第二道刻線(P2)的間隔為10