本發(fā)明涉及一種核殼結(jié)構(gòu)的SiC@C納米線準(zhǔn)陣列及其制備方法與應(yīng)用,屬于納米材料技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明公開了一種核殼結(jié)構(gòu)的SiC@C納米線準(zhǔn)陣列,所述SiC@C納米線準(zhǔn)陣列中SiC的相組成為3C?SiC,殼層的C為PEDOT層經(jīng)冷凍干燥、碳化后的摻雜硫元素的碳材料。本發(fā)明還公開了一種核殼結(jié)構(gòu)的SiC@C納米線準(zhǔn)陣列的制備方法,所述的制備方法包括:將預(yù)處理后的碳布覆蓋在盛有聚硅氮烷、三聚氰胺粉末的坩堝口,在高溫氣氛爐中加熱,冷卻后得沉積SiC準(zhǔn)陣列的碳布;將沉積SiC納米線的碳布置于反應(yīng)真空室,將汽態(tài)的EDOT誘導(dǎo)進(jìn)入反應(yīng)真空室,汽態(tài)的FeCl3引入反應(yīng)真空室后沉積得SiC@PEDOT納米線準(zhǔn)陣列,清洗后經(jīng)冷凍干燥、碳化得硫摻雜的SiC@C納米線復(fù)合材料。
聲明:
“核殼結(jié)構(gòu)的SiC@C納米線準(zhǔn)陣列及其制備方法與應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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