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一種硅片晶圓劃片工藝

1017   編輯:管理員   來源:中冶有色網(wǎng)  
2023-03-19 06:26:16
本發(fā)明提供了一種硅片晶圓劃片工藝,包括以下步驟:S1刀片選型;S2晶圓切割,包括橫切工序和豎切工序兩道工序;橫切工序采取雙刀切割,雙刀切割包括以下步驟:a第一刀切割,b第二刀切割;S3性能檢測(cè);本發(fā)明的有益效果:橫切工序采用雙刀切割相比與傳統(tǒng)的一刀切割的方法,在不影響切割效率的情況下,能夠明顯提高合格率;橫切工序采用一刀切割與雙刀切割間隔使用的方法相比與傳統(tǒng)的只采用一刀切割的方法,既提高了合格率,又大幅度降低了工藝時(shí)長(zhǎng),提高了加工效率;相比與橫切工序只采用雙刀切割的加工方法,在大幅度降低工藝時(shí)長(zhǎng),提高加工效率的同時(shí),合格率僅出現(xiàn)小幅度下降,該方法適合在生產(chǎn)小尺寸芯片時(shí)使用。
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聲明:
“一種硅片晶圓劃片工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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