本發(fā)明公開了一種水洞三維流場(chǎng)PIV測(cè)試用示蹤粒子及其制備方法，首先采用種子溶脹法制備微米級(jí)的芯核(1)，然后對(duì)芯核(1)進(jìn)行表面除油和敏化預(yù)處理，再進(jìn)行化學(xué)鍍銀的包覆方法進(jìn)行金屬化處理提高光散射強(qiáng)度，最后用硅烷偶聯(lián)劑進(jìn)行表面改性處理來改善粒子的分散性能，得到水洞三維流場(chǎng)－PIV示蹤粒子。經(jīng)本發(fā)明方法制得的水洞三維流場(chǎng)－PIV示蹤粒子剖面結(jié)構(gòu)為中心是芯核(1)，芯核(1)與表面改性層(3)之間是金屬銀包覆層(2)。其平均粒度為3μm～22μm、密度為1.1g/cm3～1.4g/cm3，且具有窄的粒度分布，較好的流場(chǎng)跟隨性和高的光散射強(qiáng)度。