本發(fā)明公開了一種無損檢測高精度元件缺陷的方法，包括：搭建依次設置的且包含X射線光源、源光柵G0、分束光柵G1、分析光柵G2及探測器的光路，該光路中的源光柵G0的周期與分析光柵G2的周期、分束光柵G1的周期與分析光柵G2的周期滿足預設條件；將待檢測高精度元件放置于分束光柵G1與分析光柵G2之間，對待檢測高精度元件進行相位襯度成像，獲得待檢測高精度元件的折射信號和吸收信號，從而對其缺陷進行檢測。采用本發(fā)明公開的方法，可以快速高效地檢測高精度元件的微小缺陷，適用于非透明物體。