本實(shí)用新型提供一種樣品研磨輔助裝置，包括：襯底、依次疊加形成于所述襯底上表面的若干層薄膜；及用于容置研磨樣品的通槽，所述通槽貫穿所述襯底及所有所述薄膜。該輔助裝置適用于28?nm及以下先進(jìn)制程的產(chǎn)品失效分析，將要研磨的樣品粘貼在通槽中，使得樣品表面與輔助裝置表面在同一水平面上，在研磨過(guò)程中，通過(guò)光學(xué)顯微鏡觀察輔助裝置上的圖案就可以準(zhǔn)確地判斷研磨到了哪一層，大大節(jié)約了反復(fù)去電子顯微鏡確認(rèn)的時(shí)間，也避免了電子顯微鏡反復(fù)照射對(duì)樣品造成的傷害。同時(shí)，由于樣品放置在輔助裝置的中央，通過(guò)觀察輔助裝置前后左右四個(gè)方向所在的層就可以判斷研磨的平整性，從而及時(shí)調(diào)整研磨的力度，保證樣品大范圍的平整性。